均勻分布應(yīng)該是最好的狀態(tài)，覺得不太可能做到。這個(gè)問題很好，我想因?yàn)闅鈮旱母叩筒畋容^大，在剛進(jìn)入真空室時(shí)是氣流，由于檔板等的阻礙后會(huì)向不同方向運(yùn)動(dòng)，這時(shí)可認(rèn)為是初步的均勻，但由于真空室各個(gè)地方的氣壓不同，流速也是不一樣的。所以這個(gè)狀態(tài)比較復(fù)雜。你所擔(dān)心的是由于氣流不均勻會(huì)影響成膜？

高折射率的鍍得比低折射率的要慢，所以MASK就相對(duì)小

對(duì)環(huán)狀坩堝,在用一段時(shí)間后總會(huì)出現(xiàn)或大或小的空洞,請(qǐng)問各位有什么好的判斷方法嗎?怎樣避免出現(xiàn)空洞呢   

1. 鍍膜過程中觀察電流有無變化:出坑電流會(huì)變小

2.鍍膜結(jié)束觀察:比較直接且一目了然

3.空洞的位置:如在邊緣且較小則影響不大

避免方法:

1.加強(qiáng)熔料

2.改善熔料方法

3.加料方面
 

我們做TOOLING一般就是做單層膜，光學(xué)TOOLING和水晶TOOLING，盡量用長波（低級(jí)次）的PEAK去判   做tooling不需要大量的實(shí)驗(yàn)，修好分布以后，做單層膜就可以抓出光學(xué)和水晶tooling   光斑的影響對(duì)Tooling很大，最好用眼睛看光斑的位置大小，并且與上一次作對(duì)比。個(gè)人認(rèn)為，調(diào)tooling的話比較不方便，還是調(diào)光斑的位置、大小好一點(diǎn)。NBPF2的晶控鍍兩層AR還是可以了。

經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計(jì)的膜系大致的工藝實(shí)施方法為：

1.確定工藝參數(shù)：工作壓強(qiáng)、基板溫度、各種材料的成膜速率，離子源工作參數(shù)；

2.在此工藝參數(shù)下作5H，5L，測(cè)量光譜透過率曲線；

3.計(jì)算出H,L膜料的折射率值；

4.用此折射率值進(jìn)行優(yōu)化膜系的設(shè)計(jì)；

5.應(yīng)用優(yōu)化膜系鍍膜，測(cè)出光譜曲線，并與設(shè)計(jì)曲線對(duì)比；

6.對(duì)比結(jié)果如有明顯差異，說明實(shí)際折射率與設(shè)計(jì)時(shí)使用的折射率不同；

7.適當(dāng)修改設(shè)計(jì)中使用的折射率值進(jìn)行重新優(yōu)化設(shè)計(jì)并鍍膜，使測(cè)試曲線更逼近設(shè)計(jì)曲線。